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v 設備用途：熱蒸發是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程。可在高真空下蒸發高質量的不同厚度的金屬薄膜。蒸鍍薄膜種類：Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有機物等
v 設備組成：有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統；真空測量系統；蒸發源；樣品加熱控溫；電控系統；配氣系統等部分組成
v 樣品尺寸：8inch
v 沉積源/真空度：根據用戶定制
v 控制系統：手動、全自動
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