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v 產品概述：系統主要由蒸發室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監控儀、工作氣路、抽氣系統、控制系統、安裝機臺等部分組成
v 設備用途：本系統配有一套電子槍及電源，可滿足在Al，Ni，Ag，Pt，Pd，Mo,Cr和Ti等多種金屬和介質膜基片上均勻沉積多層膜的需要
v 真空室尺寸：定制
v 極限真空度：≤6.0E-5Pa
v 沉積源：6個40cc坩堝
v 溫度：300℃
v 電控描述：全自動
v 工藝：片內膜厚均勻性：≤±3%
v 特色參數：樣品尺寸及數量可定制，工件架有拱形基片架和行星形基片架
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